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      WLP 2000 晶圆级封装直写光刻机


      采用先进的DMD数字光刻技术 ,无需掩模版 ,可直接将版图信息转移到涂有光刻胶的衬底上,主要应用于8inch/12inch集成电路后道领域 ,包括Flip Chip、Fan-In WLP、 Fan-Out WLP和2.5D/3D等后道封装形式。该系统采用多光学引擎并行扫描技术,具备自动套刻 、背部对准、智能纠偏 、WEE/WEP功能,在RDL、Bumping、TSV和晶圆级系统(SoW)等制程工艺中优势明显。

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      产品特点

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      应用于SoW、Flip Chip、Fan-In WLP 、 Fan-Out WLP和2.5D/3D等晶圆级后道封装形式

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      具备Die shift智能补偿 ,RDL智能布线、实时自动聚焦、边缘曝光WEE/WEP、背部对准功能

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      支持bifa必发量测、曝光与检测一站式解决方案

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      支持基板尺寸:

      12"与8"

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      最小线宽线距:

      2μm

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      套刻精度:

      ±0.6μm

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      *以上数据来源于CFMEE实验室测试结果 ,具体情况可能因实际使用环境而有所不同 。本公司保留对相关数据和内容进行调整的权利,恕不另行通知。

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