RTR 25DE/15DE 双面卷对卷直写光刻系列

业界领先的卷对卷双面直写光刻解决方案，引领高精度引线框架制造。双面同时曝光设计保证双面图案高度一致性和对准精度。该系统采用DMD技术，通过高精度的资料解析能力，最小可实现25μm精细线路及优异的线宽一致性和边缘粗糙度，在保证高品质的同时，可降低整体运行成本。

产品特点

无掩模直写曝光

自动纠偏

双面同时曝光

气动涨紧上料

适应多种尺寸规格需求

支持多种数据格式（GDSⅡ/Gerber/ODB++）

*以上数据来源于CFMEE实验室测试结果，具体情况可能因实际使用环境而有所不同。本公司保留对相关数据和内容进行调整的权利，恕不另行通知。

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